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電化學(xué)工作站

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產(chǎn)品名稱: 電化學(xué)工作站
產(chǎn)品型號(hào): REZennium pro
產(chǎn)品展商: REANOW/雷若科技
產(chǎn)品文檔: 無(wú)相關(guān)文檔

簡(jiǎn)單介紹

電化學(xué)工作站是一款集恒電位儀、恒電流儀、頻響分析儀為一體模塊化設(shè)計(jì)的高規(guī)格工作站。ZENNIUM pro采用模塊化設(shè)計(jì)技術(shù),隨時(shí)可以進(jìn)行硬件擴(kuò)展升級(jí),例如擴(kuò)展外置恒電位儀,電子負(fù)載,CIMPS光電技術(shù)等。


電化學(xué)工作站  的詳細(xì)介紹

REZennium pro 電化學(xué)工作站

電化學(xué)工作站主要技術(shù)參數(shù)

恒電位儀整體帶寬                                             10MHz                                                                                                                
ADC 分辨率 32 bit
交流阻抗頻率范圍 10μHz-8MHz
頻率精度 0.0025%
頻率分辨率 0.0025%,10000 steps / decade  
交流振幅范圍 0-6V
阻抗測(cè)試精度

1 mΩ to 10 GΩ / 2%, 100 mΩ to 10 MΩ / 0.2%  (POT)
10 μΩ to 1 GΩ / %, 1mΩ to 10 MΩ / 0.2%  (GAL)
100 mΩ to 100GΩ / 2%  (HIZ probe)

*大電流 ±3A
應(yīng)用電位范圍 ±15V
槽壓 ±28V
電壓分辨率 3nV
電流分辨率 ±5aA (32 Bit)
小信號(hào)升起時(shí)間 150ns-200μs in 5 steps 范圍自動(dòng)選擇
IR補(bǔ)償 **的EIS 技術(shù),實(shí)時(shí)自動(dòng)補(bǔ)償
接地模式 浮地和接地轉(zhuǎn)換,更寬的應(yīng)用領(lǐng)域


REZennium pro可以廣泛的應(yīng)用于物理電化學(xué)、燃料電池、鋰電池、太陽(yáng)能電池、隔膜、超級(jí)電容器、傳感器、涂層、緩蝕劑等領(lǐng)域。SDZennium pro 具有以下技術(shù)特點(diǎn):超高精度和準(zhǔn)確度的恒電位儀,10uHz-8MHz交流阻抗(EIS)頻率范圍,先進(jìn)的32bit高動(dòng)態(tài)模擬/數(shù)字信號(hào)轉(zhuǎn)換技術(shù)(HDP),±3A*大電流,±15V的應(yīng)用電壓,超過(guò)10 TΩ輸入阻抗以及可切換的接地和浮地技術(shù),這樣REZennium pro便可以應(yīng)用于地下管線和高壓釜等方面的研究。ZENNIUM pro 能夠?yàn)槟峁└冗M(jìn)的測(cè)量方法,滿足您的任何電化學(xué)實(shí)驗(yàn)要求。

REZennium pro 選件:

大電流選件、高槽壓選件、大電流遮斷和高速采樣模塊,高阻抗小電流附件,低阻抗附件,低電容探頭,電化學(xué)噪聲探頭,脈沖探頭,多通道阻抗測(cè)試,頻譜分析儀,光電化學(xué)選件,各種接口卡。  

Thales XT 軟件:

Thales-XT軟件提供高度靈活的在線,可視化測(cè)試和直觀的離線數(shù)據(jù)分析等功能。
?功能強(qiáng)大,涵蓋所有應(yīng)用
?實(shí)驗(yàn)方法科學(xué)分類,易于選擇
?清晰排列的參數(shù)列表,方便設(shè)置
?實(shí)時(shí)多窗口顯示測(cè)試數(shù)據(jù)
?實(shí)時(shí)存儲(chǔ)數(shù)據(jù),避免數(shù)據(jù)丟失
?測(cè)試結(jié)果可以圖形格式輸出  

Thales XT電化學(xué)測(cè)試軟件包括循環(huán)伏安、階躍、脈沖、直流腐蝕、交流阻抗測(cè)試和等效電路擬合軟件

?交流阻抗:恒電位交流阻抗、恒電流交流阻抗、恒電位下的交流阻抗隨時(shí)間變化曲線、恒電流下的交流阻抗隨時(shí)間變化曲線,Mott-Schottky技術(shù)

?Z-HIT 是一個(gè)具有功能的工具,它提供了一個(gè)非??煽康姆椒▉?lái)判斷測(cè)試系統(tǒng)的穩(wěn)態(tài)性并對(duì)非穩(wěn)態(tài)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。

? 線性掃描、循環(huán)伏安、多重循環(huán)伏安、階梯伏安、線性極化曲線、陽(yáng)極極化曲線、塔菲爾曲線、動(dòng)電位  極化曲線、循環(huán)極化、腐蝕電位隨時(shí)間的變化曲線

?恒電流、恒電位、動(dòng)電流、動(dòng)電位、計(jì)時(shí)電流、計(jì)時(shí)電位、電位、電流階躍

?差分脈沖伏安、線性掃描、溶出伏安法

?電化學(xué)噪聲技術(shù)

?CC-CV電池充放電技術(shù),在充放電過(guò)程中可以等時(shí)間,等電量,等電壓進(jìn)行交流阻抗測(cè)試

?電容充放電

?RDE, RRDE

?GITT/PITT測(cè)試

?Zahner Analysis: EIS等效電路模擬和擬合

?IR降自動(dòng)補(bǔ)償:**的EIS 技術(shù),實(shí)時(shí)自動(dòng)補(bǔ)償

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